在微弧氧化陶瓷膜耐蝕性的研究與應(yīng)用中存在兩個共性問題：

其一是鎂合金微弧氧化陶瓷膜層中常常含有不同尺寸的孔洞、封閉空腔和微裂紋，這些缺陷在不同的微弧氧化工藝處理鎂合金所形成的陶瓷膜層中均不同程度存在，但如何還能夠大幅度提高基體的耐蝕性。

其二是依據(jù)何種理論指導(dǎo)原則調(diào)整膜層的制備工藝參數(shù)，使膜層的腐蝕失效過程得以改善。而這兩個問題均與膜層的腐蝕失效機理密切相關(guān)。

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